Métallisation des mémoires Flash à base de NiSi et d'éléments d'alliages
L'objectif de cette étude est de regarder l'influence du Pt sur la formation des siliciures de Ni dans le procédé Salicide et en particulier sur la phase basse résistivité NiSi, envisagée par l'industrie pour réaliser les contacts avec les zones actives de transistors de type Flash. P...
| Main Author: | |
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| Language: | FRE |
| Published: |
Université Paul Cézanne - Aix-Marseille III
2008
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00408377 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/40/83/77/PDF/These_L_Ehouarne_vfinale.pdf |