ETUDE EXPERIMENTALE ET NUMERIQUE <br />DES PHENOMENES DE FISSURATION DANS LES INTERCONNEXIONS DE LA MICROELECTRONIQUE

• Main Author: Helene, Brillet-Rouxel
• Language: FRE
• Published: 2007
• Subjects: [CHIM:MATE] Chemical Sciences/Material chemistry; diélectrique low-k; nanoindentation; flexion 4 points; interconnexions; critère de rupture; amorçage de rupture; propagation de rupture
• Online Access: http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00168451; http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/16/84/51/PDF/these.pdf

Ce travail a pour objectif de mieux comprendre et maîtriser les défaillances mécaniques par fissuration liées à la réduction d'échelle des circuits intégrés appliquant la mécanique de la rupture à la microélectronique. La démarche scientifique pour discuter de l'intégrité mécanique de structures complexes telles que les interconnexions, a été conduite en deux étapes.<br /><br />- Comprendre et caractériser les mécanismes de fissurations sur les films minces fragiles de low-k par deux méthodes expérimentales, nanoindentation coin de cube et multifissuration canalisée en flexion 4 points. Les valeurs de ténacités obtenues, étant les plus critiques, servent ainsi de valeurs seuils pour estimer les risques de rupture d'une structure d'interconnexion.<br />- Estimer les risques de perte d'intégrité d'une structure par des approches numériques par Eléments finis. L'une est basée sur un critère d'amorçage de fissure aux singularités géométriques et matérielles, la seconde sur un critère énergétique de propagation de fissure pré-existante.<br /><br />Les résultats obtenus permettent d'établir les tendances générales d'influence de l'architecture des structures sur leur risque de fissuration.