Conception, montage et caractérisation d'un interféromètre achromatique pour l'étude de la lithographie à immersion à 193nm

Conception, montage et caractérisation d'un interféromètre achromatique pour l'étude de la lithographie à immersion à 193nm

La miniaturisation est aujourd'hui, plus que jamais, devenue le maître mot en microélectronique.<br />En effet, les industriels poursuivent l'objectif, de plus en plus ambitieux, de diminuer les dimensions<br />critiques des dispositifs actuels afin d'en améliorer les perf...

Full description

Bibliographic Details
Main Author:	Charley, Anne-Laure
Language:	FRE
Published:	2006
Subjects:	[SPI:NANO] Engineering Sciences/Micro and nanotechnologies/Microelectronics [SPI:OTHER] Engineering Sciences/Other Lithographie 193 nm immersion interférométrie haute ouverture numérique
Online Access:	http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00147894 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/14/78/94/PDF/ManuscritAnne-LaureCharley.pdf

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