Croissance métamorphique par Epitaxie par Jets Moléculaires et caractérisations physiques pour Transistor Bipolaire à Hétérojonction InP/InGaAs sur GaAs

Les Transistors Bipolaires à Hétérojonction fonctionnent à hautes fréquences sous des tensions d'environ 5V, en particulier dans le système de matériaux InP/InGaAs. Il est souhaitable d'obtenir ces performances non pas sur InP mais sur GaAs, substrat plus robuste, disponible en taille supé...

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Bibliographic Details
Main Author: Lefebvre, Eric
Language:FRE
Published: Université des Sciences et Technologie de Lille - Lille I 2005
Subjects:
TBH
InP
Online Access:http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00070835
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/07/08/35/PDF/THESE_IEMN_eLEFEBVRE_MetaHBT.pdf
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collection NDLTD
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sources NDLTD
topic [SPI:NANO] Engineering Sciences/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
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InGaAs
béryllium
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Epitaxie par Jets Moléculaires
III-V
cinétique des adatomes III
métamorphique
buffer GaAs-InP
buffer graduel
buffer uniforme
front de croissance
tilt
cross-hatch
Transistor Bipolaire à Hétérojonction
TBH
InP
InGaAs
béryllium
durée de vie électronique
Lefebvre, Eric
Croissance métamorphique par Epitaxie par Jets Moléculaires et caractérisations physiques pour Transistor Bipolaire à Hétérojonction InP/InGaAs sur GaAs
description Les Transistors Bipolaires à Hétérojonction fonctionnent à hautes fréquences sous des tensions d'environ 5V, en particulier dans le système de matériaux InP/InGaAs. Il est souhaitable d'obtenir ces performances non pas sur InP mais sur GaAs, substrat plus robuste, disponible en taille supérieure et préféré en industrie. Un buffer métamorphique GaAs → InP est alors requis pour relaxer la contrainte due au désaccord de paramètre de maille. Cette thèse porte sur la croissance par Epitaxie par Jets Moléculaires de tels buffers et de TBH InP/InGaAs à base fortement dopée au béryllium. Les buffers sont évalués via un protocole expérimental dédié au TBH, associant des caractérisations «matériaux» (photoluminescence, Double Diffraction des rayons X, microscopies optique et à force atomique AFM) et électriques (diodes métamorphiques). Nous comparons ainsi les deux processus de relaxation possibles : avec introduction progressive de la contrainte sur buffer graduel In(Ga)AlAs, abrupte sur buffer uniforme InP. Le rôle de la cinétique des adatomes III en front de croissance sur le processus graduel est démontré. Les performances des TBH métamorphiques InP/InGaAs épitaxiés sur GaAs via un buffer graduel InGaAlAs sont au final proches de celles des TBH de référence sur InP.
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