Étude du chauffage d'un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process)
Le procédé thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) est très utilisé dans la fabrication des composants de microélectronique. Il correspond à plusieurs étapes clés comme les recuits d'implantation, de siliciuration, d'oxydation, de nitruration et le dépôt de couches minces par CVD (C...
| Main Author: | |
|---|---|
| Language: | FRE |
| Published: |
2007
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00797638 http://pastel.archives-ouvertes.fr/docs/00/79/76/38/PDF/These-LOGERAIS-13_07_2012.pdf |