Développement, contrôle et modélisation d'un procédé de projection de poudres de silicium par plasma RF - Application aux couches minces photovoltaïques
L'objectif de cette étude est le développement et la mise au point d'un procédé de projection de poudres de silicium par plasma thermique inductif, afin d'élaborer des couches minces à finalité photovoltaïque. Les particules sont injectées dans l'écoulement où elles sont fondues,...
| Main Author: | |
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| Published: |
2003
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00004992 http://pastel.archives-ouvertes.fr/docs/00/50/11/51/PDF/These_Malek_Benmansour.pdf |