Déposition par Pulvé Risation Cathodique Radio Fréquence et Caracté Risation Électronique, Structurale et Optique de Couches Minces du Dioxyde de Titane

Déposition par Pulvé Risation Cathodique Radio Fréquence et Caracté Risation Électronique, Structurale et Optique de Couches Minces du Dioxyde de Titane

Deposited titanium oxide thin films are used as optical protector films for several materials and as energy converters for solar cells. In this work, titanium oxide thin films are deposited on c-Si and glass substrates by reactive radiofrequency sputtering. All the deposits are grown at ambient temp...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: K. Hafidi, M. Azizan, Y. Ijdiyaou, E. L. Ameziane
Format: Article
Language:English
Published: Hindawi Limited 2004-01-01
Series:Active and Passive Electronic Components
Online Access:http://dx.doi.org/10.1080/08827510310001616885
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publisher Hindawi Limited
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issn 0882-7516
1563-5031
publishDate 2004-01-01
description Deposited titanium oxide thin films are used as optical protector films for several materials and as energy converters for solar cells. In this work, titanium oxide thin films are deposited on c-Si and glass substrates by reactive radiofrequency sputtering. All the deposits are grown at ambient temperature and the sputtering gas is a mixture of oxygen and argon with an overall pressure of 10−2 mbar. The oxygen partial pressure ratios varies from 5% to 20%.
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