| Summary: | Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetron
Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizó un blanco
formado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) y
una razón de presiones parciales de nitrógeno - argón, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del
sustrato se varió entre 260 y 330 ºC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con
diferentes espesores. La composición química de las películas se determinó mediante la técnica de energía
dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Igualmente se
midió micro dureza, y se determinó su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedancia
electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de
pequeño diámetro, con características electroquímicas de protección al sustrato frente a procesos de corrosión.
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