LEADER 03442namaa2201009uu 4500
001 doab100773
003 oapen
005 20230623
006 m o d
007 cr|mn|---annan
008 230623s2023 xx |||||o ||| 0|eng d
020 |a 9783036573526 
020 |a 9783036573533 
020 |a books978-3-0365-7353-3 
024 7 |a 10.3390/books978-3-0365-7353-3  |2 doi 
040 |a oapen  |c oapen 
041 0 |a eng 
042 |a dc 
072 7 |a TB  |2 bicssc 
720 1 |a Fiorenza, Patrick  |4 edt 
720 1 |a Eriksson, Jens  |4 edt 
720 1 |a Eriksson, Jens  |4 oth 
720 1 |a Fiorenza, Patrick  |4 oth 
720 1 |a Lo Nigro, Raffaella  |4 edt 
720 1 |a Lo Nigro, Raffaella  |4 oth 
720 1 |a Pécz, Béla  |4 edt 
720 1 |a Pécz, Béla  |4 oth 
245 0 0 |a Nanotechnology for Electronic Materials and Devices 
260 |a Basel  |b MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute  |c 2023 
300 |a 1 online resource (162 p.) 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
506 0 |a Open Access  |f Unrestricted online access  |2 star 
520 |a Electronics nanotechnology represents a multidisciplinary field with a very broad range of applications used to address different challenges. This reprint, through eleven original research articles, aims to acknowledge recent developments related to the fabrication and applications of nanomaterials: synthesis, characterization, and device fabrication. 
540 |a Creative Commons  |f https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/  |2 cc  |u https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ 
546 |a English 
650 7 |a Technology: general issues  |2 bicssc 
653 |a 4H-SiC 
653 |a AlN 
653 |a atomic layer deposition 
653 |a boxcar averaging 
653 |a C-AFM 
653 |a combinatorial approach 
653 |a contact resistance 
653 |a crystallization of silicon 
653 |a CVD growth 
653 |a double gate 
653 |a dual-gate 
653 |a electrical performance 
653 |a ferromagnetism 
653 |a FET 
653 |a GaN 
653 |a hafnium oxide 
653 |a iron oxide 
653 |a metal oxides 
653 |a Moiré fringes 
653 |a monolayer MoS2 
653 |a MoS2 
653 |a multilayers 
653 |a n/a 
653 |a nanolaminates 
653 |a phase transition 
653 |a photoluminescence 
653 |a power-MOSFET 
653 |a radio-frequency transistors 
653 |a Raman 
653 |a resistive switching 
653 |a scanning capacitance microscopy 
653 |a scanning microwave impedance microscopy 
653 |a scanning near-field microwave microscopy 
653 |a scanning nonlinear dielectric microscopy 
653 |a scanning probe microscopy 
653 |a Sm doping 
653 |a spectroscopic ellipsometry 
653 |a Sub-2 nm technology 
653 |a sulfurization 
653 |a TEM 
653 |a thermal oxidation 
653 |a thermochromism 
653 |a TMD 
653 |a transmission electron microscopy 
653 |a WS2 
653 |a XPS 
793 0 |a DOAB Library. 
856 4 0 |u https://directory.doabooks.org/handle/20.500.12854/100773  |7 0  |z Open Access: DOAB: description of the publication 
856 4 0 |u https://mdpi.com/books/pdfview/book/7235  |7 0  |z Open Access: DOAB, download the publication